各種シリコンウェハを提供致します。

サイズ ２～１２インチ
厚　さ １００μｍ ～１０００μｍ
タイプ モニター、再生

成膜加工

シリコンウェハーに成膜加工を致します。
サイズ ３～１２インチ
膜種 ＳｉＯ２（熱酸化、ＴＥＯＳ）
ＳｉＮ （ＬＰ又プラズマ）
金属膜 （アルミ、タングステン）

バックグラインド

基盤 デバイスウェハー
サイズ ３～８インチ
加工例 ５２５μｍ（支給前）→ ２５０μｍ（加工後）
ＴＴＶ（５μｍ）